[heise] heise online: Prägeverfahren für 15-Nanometer-Chips serienreif

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02.05.2007 14:52

Prägeverfahren für 15-Nanometer-Chips serienreif

In den Labors von Hewlett-Packard, die unter anderem an Molekular- und
Nanoröhrchen-Bauelementen[1] tüfteln, wurde auch ein Prägeverfahren[2]
zur Nanostrukturierung entwickelt und patentiert. Nun hat HP eine
Lizenz für diese Nano-Imprint Lithography (NIL) an ein
Startup-Unternehmen namens Nanolithosolutions mit Sitz im
kalifornischen Carlsbad vergeben und beteiligt sich auch selbst an der
Firma, in der mit dem Uni-Professor Yong Chen[3] auch ein ehemaliger
HP-Labs-Mitarbeiter Verantwortung trägt. Nanolithosolutions hat bereits
ein Prägewerkzeug fertiggestellt, mit dem sich so genannte "Mask
Aligner[4]" – gebräuchliche Geräte der Halbleiter-Lithographietechnik –
zur Nanostrukturierung nutzen lassen.

Auch im Osten der USA gibt es eine rege NIL-Entwicklung: Die 1999 vom
Uni-Princeton-Professor Stephen Y. Chou[5] gegründete Firma Nanonex[6]
offeriert ebenfalls NIL-Systeme. Damit treten bei der NIL in den USA
offenbar das California NanoSystems Institute (CNSI[7]) der UCLA[8]
sowie das NanoStructures Laboratory (NSL[9]) der Princeton
University[10] gegeneinander an, außerdem hat das MIT noch einen
"Nanostempel[11]" entwickelt.
 (ciw[12]/c't)

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  [3] http://www.cnsi.ucla.edu/institution/personnel?personnel_id=113137
  [4] http://www.suss.com/products/lithography/mask_aligner/
  [5] http://www.princeton.edu/~chouweb/choubio.html
  [6] http://www.nanonex.com/
  [7] http://www.cnsi.ucla.edu/
  [8] http://www.ucla.edu/
  [9] http://www.princeton.edu/~chouweb/
  [10] http://www.princeton.edu/
  [11] http://web.mit.edu/engineering/tt/nanostamp.html
  [12] mailto:ciw at ct.heise.de

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